ฝักบัวในการแกะสลัก

หัวฝักบัวซิลิคอนคาร์ไบด์ (SiC) เป็นส่วนประกอบสำคัญในอุปกรณ์การผลิตเซมิคอนดักเตอร์ โดยมีบทบาทสำคัญในกระบวนการขั้นสูง เช่น การสะสมไอสารเคมี (CVD) และการสะสมชั้นอะตอม (ALD)

หน้าที่หลักของกฝักบัว SiCคือการกระจายก๊าซของสารตั้งต้นให้เท่ากันทั่วทั้งพื้นผิวแผ่นเวเฟอร์ เพื่อให้มั่นใจว่าชั้นที่สะสมอยู่สม่ำเสมอและสม่ำเสมอ ในกระบวนการ CVD และ ALD การกระจายก๊าซของสารตั้งต้นอย่างสม่ำเสมอเป็นสิ่งสำคัญอย่างยิ่งในการได้รับฟิล์มบางคุณภาพสูง โครงสร้างที่เป็นเอกลักษณ์และคุณสมบัติของวัสดุของหัวฝักบัว SiC ช่วยให้สามารถกระจายก๊าซได้อย่างมีประสิทธิภาพและการไหลของก๊าซสม่ำเสมอ เป็นไปตามข้อกำหนดที่เข้มงวดสำหรับคุณภาพฟิล์มและประสิทธิภาพในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์

ในระหว่างกระบวนการทำปฏิกิริยาเวเฟอร์ พื้นผิวของหัวฝักบัวจะถูกปกคลุมไปด้วยไมโครรูขุมขนอย่างหนาแน่น (เส้นผ่านศูนย์กลางรูพรุน 0.2-6 มม.) ด้วยโครงสร้างรูพรุนและทางเดินก๊าซที่ออกแบบมาอย่างแม่นยำ ก๊าซในกระบวนการพิเศษจะถูกส่งผ่านรูเล็กๆ หลายพันรูในแผ่นกระจายก๊าซและสะสมอย่างสม่ำเสมอบนพื้นผิวแผ่นเวเฟอร์ ช่วยให้มั่นใจได้ว่าชั้นฟิล์มมีความสม่ำเสมอและสม่ำเสมอทั่วทั้งบริเวณต่างๆ ของเวเฟอร์ ดังนั้น นอกเหนือจากข้อกำหนดที่สูงมากสำหรับความสะอาดและความต้านทานการกัดกร่อนแล้ว แผ่นกระจายก๊าซยังกำหนดข้อกำหนดที่เข้มงวดเกี่ยวกับความสม่ำเสมอของเส้นผ่านศูนย์กลางของรูรับแสงและการมีเสี้ยนบนผนังด้านในของรูรับแสงอีกด้วย ค่าเผื่อความคลาดเคลื่อนที่มากเกินไปและความเบี่ยงเบนมาตรฐานของขนาดรูรับแสง หรือการมีอยู่ของครีบบนผนังด้านในใดๆ จะส่งผลให้ฟิล์มที่สะสมอยู่มีความหนาไม่เท่ากัน ซึ่งส่งผลกระทบโดยตรงต่อผลผลิตในกระบวนการของอุปกรณ์ ในกระบวนการที่ใช้พลาสมาช่วย (เช่น PECVD และการกัดแบบแห้ง) หัวฝักบัวซึ่งเป็นส่วนหนึ่งของอิเล็กโทรด จะสร้างสนามไฟฟ้าที่สม่ำเสมอโดยใช้แหล่งพลังงาน RF ส่งเสริมการกระจายตัวของพลาสมาที่สม่ำเสมอ และปรับปรุงความสม่ำเสมอของการกัดหรือการสะสม

หัวฝักบัว SiC ใช้กันอย่างแพร่หลายในการผลิตวงจรรวม ระบบไมโครไฟฟ้าเครื่องกล (MEMS) เซมิคอนดักเตอร์กำลัง และสาขาอื่นๆ ข้อได้เปรียบด้านประสิทธิภาพจะเห็นได้ชัดเจนเป็นพิเศษในโหนดกระบวนการขั้นสูงที่ต้องการการสะสมที่มีความแม่นยำสูง เช่น กระบวนการ 7 นาโนเมตร และ 5 นาโนเมตรและต่ำกว่า โดยให้การกระจายก๊าซที่เสถียรและสม่ำเสมอ ช่วยให้มั่นใจถึงความสม่ำเสมอและความสม่ำเสมอของชั้นที่สะสม จึงช่วยปรับปรุงประสิทธิภาพและความน่าเชื่อถือของอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์

ข้อเสนอ Semicorex ปรับแต่งได้ซีวีดี SiCและซิลิคอน ฝักบัวตามความต้องการของลูกค้า หากคุณมีข้อสงสัยหรือต้องการรายละเอียดเพิ่มเติม โปรดอย่าลังเลที่จะติดต่อเรา

โทรศัพท์ติดต่อ # +86-13567891907

อีเมล์: sales@semicorex.com