จีน กราไฟท์พิเศษ ผู้ผลิต ผู้จำหน่าย โรงงาน

กราไฟท์พิเศษเป็นกราไฟท์เทียมชนิดหนึ่งที่ประมวลผล มันเป็นวัสดุสำคัญที่ขาดไม่ได้ในทุกด้านของเซมิคอนดักเตอร์และกระบวนการผลิตไฟฟ้าโซลาร์เซลล์รวมถึงการเจริญเติบโตของคริสตัลการปลูกถ่ายไอออน epitaxy ฯลฯ

1. การเจริญเติบโตของคริสตัลซิลิกอนคาร์ไบด์ (SIC)

ซิลิคอนคาร์ไบด์เป็นวัสดุเซมิคอนดักเตอร์รุ่นที่สามถูกนำมาใช้กันอย่างแพร่หลายในยานพาหนะพลังงานใหม่การสื่อสาร 5G และสาขาอื่น ๆ ในกระบวนการเจริญเติบโตของคริสตัล SIC ขนาด 6 นิ้วและ 8 นิ้วกราไฟท์ Isostatic ส่วนใหญ่จะใช้ในการผลิตส่วนประกอบสำคัญต่อไปนี้:

กราไฟท์เบ้าหลอม: สิ่งนี้สามารถใช้ในการสังเคราะห์วัตถุดิบผง SIC และยังช่วยในการเจริญเติบโตของคริสตัลที่อุณหภูมิสูง ความบริสุทธิ์สูงความต้านทานอุณหภูมิสูงและความต้านทานการกระแทกด้วยความร้อนทำให้มั่นใจได้ว่าสภาพแวดล้อมการเจริญเติบโตของคริสตัลที่มั่นคง

เครื่องทำความร้อนกราไฟท์: สิ่งนี้ให้การกระจายความร้อนสม่ำเสมอทำให้มั่นใจได้ว่าการเจริญเติบโตของคริสตัล SIC คุณภาพสูง

ท่อฉนวน: สิ่งนี้รักษาความสม่ำเสมอของอุณหภูมิภายในเตาหลอมการเจริญเติบโตของคริสตัลและลดการสูญเสียความร้อน

2. การปลูกถ่ายไอออน

การฝังไอออนเป็นกระบวนการสำคัญในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ กราไฟท์ Isostatic ส่วนใหญ่ใช้ในการผลิตส่วนประกอบต่อไปนี้ในการปลูกถ่ายไอออน:

กราไฟท์ getter: สิ่งนี้ดูดซับไอออนที่ไม่บริสุทธิ์ในลำแสงไอออนเพื่อให้มั่นใจว่าความบริสุทธิ์ของไอออน

วงแหวนโฟกัสกราไฟท์: สิ่งนี้มุ่งเน้นลำแสงไอออนปรับปรุงความแม่นยำและประสิทธิภาพของการปลูกถ่ายไอออน ถาดพื้นผิวกราไฟท์: ใช้เพื่อรองรับเวเฟอร์ซิลิคอนและรักษาเสถียรภาพและความมั่นคงในระหว่างการฝังไอออน

3. กระบวนการ epitaxy

กระบวนการ epitaxy เป็นขั้นตอนสำคัญในการผลิตอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ กราไฟท์กด Isostatically ส่วนใหญ่ใช้ในการผลิตส่วนประกอบต่อไปนี้ในเตาหลอม epitaxy:

ถาดกราไฟท์และไวรัส: ใช้เพื่อรองรับเวเฟอร์ซิลิคอนให้การสนับสนุนที่มั่นคงและการนำความร้อนสม่ำเสมอในระหว่างกระบวนการ epitaxy

4. แอพพลิเคชั่นการผลิตเซมิคอนดักเตอร์อื่น ๆ

กราไฟท์กด Isostatically ยังใช้กันอย่างแพร่หลายในแอพพลิเคชั่นการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ต่อไปนี้:

กระบวนการแกะสลัก: ใช้ในการผลิตอิเล็กโทรดกราไฟท์และส่วนประกอบป้องกันสำหรับ etchers ความต้านทานการกัดกร่อนและความบริสุทธิ์สูงช่วยให้เกิดความเสถียรและความแม่นยำในกระบวนการแกะสลัก

การสะสมไอเคมี (CVD): ใช้ในการผลิตถาดกราไฟท์และเครื่องทำความร้อนภายในเตาเผา CVD การนำความร้อนสูงและความต้านทานอุณหภูมิสูงช่วยให้มั่นใจได้ว่าการสะสมของฟิล์มบาง ๆ สม่ำเสมอ

การทดสอบบรรจุภัณฑ์: ใช้ในการผลิตอุปกรณ์ทดสอบและถาดพาหะ ความแม่นยำสูงและการปนเปื้อนต่ำช่วยให้มั่นใจได้ว่าผลการทดสอบที่ถูกต้อง

ข้อดีของชิ้นส่วนกราไฟท์

ความบริสุทธิ์สูง:

การใช้วัสดุกราไฟท์ที่มีความบริสุทธิ์สูงที่มีปริมาณเจือจางต่ำมากมันเป็นไปตามข้อกำหนดด้านความบริสุทธิ์ของวัสดุที่เข้มงวดของการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เตาล้างการทำให้บริสุทธิ์ของ บริษัท สามารถชำระกราไฟท์ให้ต่ำกว่า 5ppm

ความแม่นยำสูง:

ด้วยอุปกรณ์การประมวลผลขั้นสูงและเทคโนโลยีการประมวลผลที่เป็นผู้ใหญ่ทำให้มั่นใจได้ว่าความแม่นยำของมิติของผลิตภัณฑ์และรูปแบบและความคลาดเคลื่อนของตำแหน่งถึงระดับไมครอน

ประสิทธิภาพสูง:

ผลิตภัณฑ์มีความต้านทานอุณหภูมิสูงที่ยอดเยี่ยมความต้านทานการกัดกร่อนความต้านทานรังสีการนำความร้อนสูงและคุณสมบัติอื่น ๆ พบกับสภาพการทำงานที่รุนแรงของการผลิตเซมิคอนดักเตอร์

บริการที่กำหนดเอง:

บริการออกแบบและประมวลผลผลิตภัณฑ์ที่กำหนดเองสามารถให้ได้ตามความต้องการของลูกค้าเพื่อตอบสนองความต้องการของสถานการณ์แอปพลิเคชันที่แตกต่างกัน

ประเภทของผลิตภัณฑ์กราไฟท์

(1) กราไฟท์ isostatic
ผลิตภัณฑ์กราไฟท์ isostatic ผลิตโดยการกดแบบเย็น isostatic เมื่อเปรียบเทียบกับวิธีการขึ้นรูปอื่น ๆ ไม้กางเขนที่ผลิตโดยกระบวนการนี้มีความเสถียรที่ยอดเยี่ยม ผลิตภัณฑ์กราไฟท์ที่จำเป็นสำหรับผลึกเดี่ยว SIC นั้นมีขนาดใหญ่มากซึ่งจะนำไปสู่ความบริสุทธิ์ที่ไม่สม่ำเสมอบนพื้นผิวและภายในผลิตภัณฑ์กราไฟท์ซึ่งไม่สามารถปฏิบัติตามข้อกำหนดการใช้งานได้ เพื่อให้เป็นไปตามข้อกำหนดการทำให้บริสุทธิ์อย่างลึกล้ำของผลิตภัณฑ์กราไฟท์ขนาดใหญ่ที่จำเป็นสำหรับผลึกเดี่ยว SIC ควรใช้กระบวนการทำให้บริสุทธิ์เทอร์โมเคมีอุณหภูมิสูงที่ไม่เหมือนใครเพื่อให้ได้ผลิตภัณฑ์กราไฟท์ขนาดใหญ่หรือรูปทรงพิเศษ

(2) กราไฟท์ที่มีรูพรุน
กราไฟท์ที่มีรูพรุนเป็นชนิดของกราไฟท์ที่มีความพรุนสูงและมีความหนาแน่นต่ำ ในกระบวนการเจริญเติบโตของคริสตัล SIC กราไฟท์ที่มีรูพรุนมีบทบาทสำคัญในการปรับปรุงความสม่ำเสมอของการถ่ายโอนมวลลดอัตราการเกิดขึ้นของการเปลี่ยนแปลงเฟสและปรับปรุงรูปร่างของผลึก
การใช้กราไฟท์ที่มีรูพรุนช่วยเพิ่มอุณหภูมิและความสม่ำเสมอของอุณหภูมิของพื้นที่วัตถุดิบเพิ่มความแตกต่างของอุณหภูมิตามแนวแกนในเบ้าหลอมและยังมีผลบางอย่างต่อการลดลงของการตกผลึกของพื้นผิววัตถุดิบ ในห้องเจริญเติบโตกราไฟท์ที่มีรูพรุนช่วยเพิ่มความเสถียรของการไหลของวัสดุตลอดกระบวนการเจริญเติบโตเพิ่มอัตราส่วน C/Si ของพื้นที่การเจริญเติบโตช่วยลดความน่าจะเป็นของการเปลี่ยนแปลงเฟสและในเวลาเดียวกันกราไฟท์ที่มีรูพรุนก็มีบทบาทในการปรับปรุงอินเทอร์เฟซคริสตัล

(3) รู้สึก
รู้สึกอ่อนนุ่มและรู้สึกแข็งทั้งสองเล่นบทบาทของวัสดุฉนวนกันความร้อนที่สำคัญในการเจริญเติบโตของคริสตัล SIC และการเชื่อมโยง epitaxial

(4) กราไฟท์ฟอยล์
กระดาษกราไฟท์เป็นวัสดุที่ใช้งานได้จากกราไฟท์เกล็ดคาร์บอนสูงผ่านการบำบัดทางเคมีและการกลิ้งอุณหภูมิสูง มันมีค่าการนำความร้อนสูงการนำไฟฟ้าความยืดหยุ่นและความต้านทานการกัดกร่อน

(5) วัสดุคอมโพสิต
คาร์บอนคาร์บอนคาร์บอนฟิลด์เป็นหนึ่งในวัสดุสิ้นเปลืองหลักในการผลิตเตาเผาคริสตัลเดี่ยว

การผลิตเซมิคอร์ส

Semicorex ทำกราไฟท์ด้วยวิธีการผลิตแบบเล็กชุดเล็ก การผลิตแบบชุดขนาดเล็กทำให้ผลิตภัณฑ์สามารถควบคุมได้มากขึ้น กระบวนการทั้งหมดถูกควบคุมโดยตัวควบคุมลอจิกที่ตั้งโปรแกรมได้ (PLCs) ข้อมูลกระบวนการโดยละเอียดถูกบันทึกไว้เพื่อให้สามารถตรวจสอบย้อนกลับวงจรชีวิตได้อย่างสมบูรณ์

ในระหว่างกระบวนการคั่วทั้งหมดความสอดคล้องที่เกิดขึ้นในความต้านทานในสถานที่ต่าง ๆ และการควบคุมอุณหภูมิที่แน่นหนา สิ่งนี้ทำให้มั่นใจได้ถึงความสม่ำเสมอและความน่าเชื่อถือของวัสดุกราไฟท์

Semicorex ใช้เทคโนโลยีการกด Isostatic อย่างเต็มที่ซึ่งแตกต่างจากซัพพลายเออร์อื่น ๆ หมายความว่ากราไฟท์นั้นมีความสม่ำเสมอเป็นพิเศษและได้รับการพิสูจน์แล้วว่ามีความสำคัญอย่างยิ่งในกระบวนการ epitaxial การทดสอบความสม่ำเสมอของวัสดุที่ครอบคลุมได้ดำเนินการรวมถึงความหนาแน่นความต้านทานความแข็งความแข็งแรงและความแข็งแรงในตัวอย่างที่แตกต่างกัน