MOCVD เป็นอุปกรณ์หลัก

อุปกรณ์ MOCVD เป็นอุปกรณ์หลักในกระบวนการผลิตของอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ แต่ยังเป็นการลงทุนอุปกรณ์ในสัดส่วนที่มากในห่วงโซ่อุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ (สามกระบวนการและอุปกรณ์หลัก: การพิมพ์หิน การแกะสลัก การเคลือบฟิล์มบาง) การลงทุนในสายการผลิต LED MOCVD จำนวนเงินลงทุนสามารถคิดเป็นสูงถึง 50% ในอุปกรณ์ CVD ไม่สามารถวางวัสดุพิมพ์ลงบนโลหะโดยตรงหรือวางบนฐานเพื่อการสะสมของ epitaxial เนื่องจากเกี่ยวข้องกับอิทธิพลของปัจจัยต่างๆ เช่น ทิศทางการไหลของก๊าซ (แนวนอน แนวตั้ง) อุณหภูมิ ความดัน การตรึง , ขจัดสิ่งปนเปื้อน ดังนั้น จึงมีการใช้ฐานและวัสดุพิมพ์วางบนดิสก์ จากนั้นจึงทำการทับถม epitaxial ที่ด้านบนของวัสดุพิมพ์โดยใช้เทคโนโลยี CVD ฐานนี้เป็นกราไฟท์เคลือบ SiCตัวกระตุ้น(ซึ่งเรียกอีกอย่างว่าผู้ให้บริการ) และโครงสร้างจะแสดงในรูปด้านล่าง