ส่วนประกอบเซรามิกที่แม่นยำในเซมิคอนดักเตอร์

เซรามิกที่แม่นยำชิ้นส่วนเป็นส่วนประกอบสำคัญของอุปกรณ์หลักในกระบวนการสำคัญของการผลิตเซมิคอนดักเตอร์เช่นโฟโตโครม, การแกะสลัก, การสะสมของฟิล์มบาง, การฝังไอออน, CMP, ฯลฯ เช่นตลับลูกปืน, รางนำทาง, liners, chucks ไฟฟ้าสถิต, แขนจัดการกลไก ฯลฯ

ในเครื่องจักรหินระดับสูงเพื่อให้บรรลุความแม่นยำของกระบวนการสูงจำเป็นต้องใช้ส่วนประกอบเซรามิกอย่างกว้างขวางที่มีความซับซ้อนในการทำงานที่ดีเสถียรภาพของโครงสร้างความเสถียรทางความร้อนและความแม่นยำมิติเช่นชัคไฟฟ้าสถิต, เครื่องดูดฝุ่น, บล็อก, แผ่นระบายความร้อนด้วยน้ำเหล็กเหล็กแม่เหล็ก, กระจก, รางนำ, โต๊ะทำงาน, ตารางหน้ากาก, ฯลฯ

1. ชัคไฟฟ้าสถิต

Chuck ไฟฟ้าสถิตเป็นเครื่องมือหนีบเวเฟอร์ซิลิคอนที่ใช้กันอย่างแพร่หลายในการผลิตส่วนประกอบเซมิคอนดักเตอร์ มีการใช้กันอย่างแพร่หลายในกระบวนการเซมิคอนดักเตอร์ที่ใช้พลาสมาและสุญญากาศเช่นการแกะสลักการสะสมไอสารเคมีและการปลูกถ่ายไอออน วัสดุเซรามิกหลักคือเซรามิกอลูมินาและเซรามิกซิลิกอนไนไตรด์ ความยากลำบากในการผลิตคือการออกแบบโครงสร้างที่ซับซ้อนการเลือกวัตถุดิบและการเผาไหม้การควบคุมอุณหภูมิและเทคโนโลยีการประมวลผลที่มีความแม่นยำสูง

2. แพลตฟอร์มมือถือ

การออกแบบระบบวัสดุของแพลตฟอร์มมือถือของเครื่อง lithography เป็นกุญแจสู่ความแม่นยำสูงและความเร็วสูงของเครื่อง lithography เพื่อที่จะต้านทานการเสียรูปของแพลตฟอร์มมือถือได้อย่างมีประสิทธิภาพเนื่องจากการเคลื่อนไหวความเร็วสูงในระหว่างกระบวนการสแกนวัสดุแพลตฟอร์มควรรวมถึงวัสดุการขยายความร้อนต่ำที่มีความแข็งเฉพาะสูงนั่นคือวัสดุดังกล่าวควรมีโมดูลัสสูงและข้อกำหนดความหนาแน่นต่ำ นอกจากนี้วัสดุยังต้องการความแข็งที่เฉพาะเจาะจงสูงซึ่งช่วยให้แพลตฟอร์มทั้งหมดสามารถรักษาระดับการบิดเบือนที่เท่ากันในขณะที่มีการเร่งความเร็วและความเร็วสูงขึ้น ด้วยการสลับมาสก์ด้วยความเร็วที่สูงขึ้นโดยไม่เพิ่มความผิดเพี้ยนปริมาณการทำงานจะเพิ่มขึ้นและประสิทธิภาพการทำงานจะดีขึ้นในขณะที่มั่นใจได้ว่ามีความแม่นยำสูง

เพื่อถ่ายโอนแผนภาพวงจรชิปจากหน้ากากไปยังเวเฟอร์เพื่อให้ได้ฟังก์ชั่นชิปที่กำหนดไว้ล่วงหน้ากระบวนการแกะสลักเป็นส่วนสำคัญ ส่วนประกอบที่ทำจากวัสดุเซรามิกบนอุปกรณ์แกะสลักส่วนใหญ่รวมถึงห้อง, กระจกหน้าต่าง, แผ่นกระจายก๊าซ, หัวฉีด, แหวนฉนวน, แผ่นปก, แหวนโฟกัสและเชยไฟฟ้าสถิต

3. ห้อง

เนื่องจากขนาดคุณลักษณะขั้นต่ำของอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ยังคงหดตัวยังคงลดลงข้อกำหนดสำหรับข้อบกพร่องของเวเฟอร์ได้เข้มงวดมากขึ้น เพื่อหลีกเลี่ยงการปนเปื้อนโดยสิ่งสกปรกและอนุภาคโลหะมีความต้องการที่เข้มงวดมากขึ้นได้รับการหยิบยกสำหรับวัสดุของช่องเสียบอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์และส่วนประกอบในโพรง ในปัจจุบันวัสดุเซรามิกได้กลายเป็นวัสดุหลักสำหรับการแกะสลักของโพรงเครื่อง

ข้อกำหนดของวัสดุ (1) ความบริสุทธิ์สูงและปริมาณโลหะต่ำ (2) คุณสมบัติทางเคมีที่เสถียรของส่วนประกอบหลักโดยเฉพาะอัตราการเกิดปฏิกิริยาทางเคมีต่ำกับก๊าซที่กัดกร่อนฮาโลเจน (3) ความหนาแน่นสูงและรูขุมขนเปิดน้อย (4) ธัญพืชขนาดเล็กและปริมาณเฟสขอบเขตเมล็ดต่ำ (5) คุณสมบัติเชิงกลที่ยอดเยี่ยมและการผลิตและการประมวลผลที่ง่าย (6) ส่วนประกอบบางอย่างอาจมีข้อกำหนดด้านประสิทธิภาพอื่น ๆ เช่นคุณสมบัติอิเล็กทริกที่ดีการนำไฟฟ้าหรือการนำความร้อน

4. หัวฝักบัว

พื้นผิวของมันมีการกระจายอย่างหนาแน่นด้วยรูเล็ก ๆ หลายร้อยหรือหลายพันรูเช่นเครือข่ายประสาทที่ทออย่างแม่นยำซึ่งสามารถควบคุมการไหลของก๊าซและมุมการฉีดได้อย่างแม่นยำเพื่อให้แน่ใจว่าการประมวลผลเวเฟอร์ทุกนิ้วนั้นเท่ากัน

ปัญหาทางเทคนิคนอกเหนือจากข้อกำหนดที่สูงมากสำหรับความสะอาดและความต้านทานการกัดกร่อนแผ่นกระจายก๊าซมีข้อกำหนดที่เข้มงวดเกี่ยวกับความสอดคล้องของรูรับแสงของรูเล็ก ๆ บนแผ่นกระจายก๊าซและเสี้ยนบนผนังด้านในของรูเล็ก ๆ หากความทนทานต่อขนาดรูรับแสงและค่าเบี่ยงเบนมาตรฐานความสอดคล้องมีขนาดใหญ่เกินไปหรือมีเสี้ยนอยู่บนผนังด้านในความหนาของชั้นฟิล์มที่สะสมจะแตกต่างกันซึ่งจะส่งผลโดยตรงต่อกระบวนการของอุปกรณ์

5. แหวนโฟกัส

ฟังก์ชั่นของวงแหวนโฟกัสคือการให้พลาสมาที่สมดุลซึ่งต้องใช้ค่าการนำไฟฟ้าที่คล้ายกันกับเวเฟอร์ซิลิคอน ในอดีตวัสดุที่ใช้เป็นซิลิคอนนำไฟฟ้าส่วนใหญ่ แต่พลาสมาที่มีฟลูออรีนจะทำปฏิกิริยากับซิลิกอนเพื่อสร้างฟลูออไรด์ซิลิกอนระเหยซึ่งทำให้อายุการใช้งานของมันสั้นลงอย่างมาก SIC มีค่าการนำไฟฟ้าที่คล้ายกันกับผลึกเดี่ยวและมีความต้านทานต่อการแกะสลักพลาสมาได้ดีขึ้นดังนั้นจึงสามารถใช้เป็นวัสดุสำหรับการโฟกัสวงแหวน

Semicorex มีคุณภาพสูงชิ้นส่วนเซรามิกในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ หากคุณมีข้อสงสัยหรือต้องการรายละเอียดเพิ่มเติมโปรดอย่าลังเลที่จะติดต่อเรา

ติดต่อโทรศัพท์ # +86-13567891907

อีเมล: sales@semicorex.com