ระบบ Epi บาร์เรลแบบให้ความร้อนแบบเหนี่ยวนำ

ระบบ Epi บาร์เรลแบบให้ความร้อนแบบเหนี่ยวนำ Semicorex เป็นตัวเลือกที่สมบูรณ์แบบสำหรับการใช้งานด้านการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ที่ต้องการการกระจายความร้อนและการนำความร้อนเป็นพิเศษ การเคลือบ SiC ที่มีความบริสุทธิ์สูงและความหนาแน่นที่เหนือกว่าให้คุณสมบัติการป้องกันและการกระจายความร้อนที่เหนือกว่า ทำให้มั่นใจได้ถึงประสิทธิภาพที่เชื่อถือได้และสม่ำเสมอแม้ในสภาพแวดล้อมที่ท้าทายที่สุด
ที่ Semicorex เรามุ่งเน้นในการนำเสนอผลิตภัณฑ์คุณภาพสูงและคุ้มค่าแก่ลูกค้าของเรา ระบบ Epi บาร์เรลแบบให้ความร้อนแบบเหนี่ยวนำของเรามีข้อได้เปรียบด้านราคาและส่งออกไปยังตลาดยุโรปและอเมริกาหลายแห่ง เรามุ่งมั่นที่จะเป็นพันธมิตรระยะยาวของคุณ นำเสนอผลิตภัณฑ์ที่มีคุณภาพสม่ำเสมอและการบริการลูกค้าที่เป็นเลิศ

พารามิเตอร์ของระบบ Epi บาร์เรลแบบให้ความร้อนแบบเหนี่ยวนำ

คุณลักษณะของระบบ Epi บาร์เรลแบบให้ความร้อนแบบเหนี่ยวนำ

- ทั้งสารตั้งต้นกราไฟท์และชั้นซิลิคอนคาร์ไบด์มีความหนาแน่นที่ดีและสามารถมีบทบาทในการป้องกันที่ดีในสภาพแวดล้อมการทำงานที่มีอุณหภูมิสูงและกัดกร่อน

- ตัวรับเคลือบซิลิคอนคาร์ไบด์ที่ใช้สำหรับการเจริญเติบโตของผลึกเดี่ยวมีความเรียบของพื้นผิวที่สูงมาก

- ลดความแตกต่างของค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อนระหว่างพื้นผิวกราไฟท์และชั้นซิลิคอนคาร์ไบด์ ปรับปรุงความแข็งแรงพันธะได้อย่างมีประสิทธิภาพเพื่อป้องกันการแตกร้าวและการหลุดร่อน

- ทั้งซับสเตรตกราไฟท์และชั้นซิลิกอนคาร์ไบด์มีค่าการนำความร้อนสูงและมีคุณสมบัติการกระจายความร้อนที่ดีเยี่ยม

- มีจุดหลอมเหลวสูง ทนต่อการเกิดออกซิเดชันที่อุณหภูมิสูง ทนต่อการกัดกร่อน