แผ่นเคลือบ sic

Semicorex SIC Coated Plate เป็นส่วนประกอบประสิทธิภาพสูงที่ออกแบบมาโดยเฉพาะสำหรับอุปกรณ์การเจริญเติบโตของ epitaxial (EPI) ซึ่งต้องการพื้นผิวที่มีความบริสุทธิ์สูงและมีความเสถียรเพื่อสร้างฟิล์มคุณภาพสูง มันเป็นแกนกราไฟท์ที่มีความแข็งแรงสูงเคลือบอย่างสม่ำเสมอและหนาแน่นด้วยซิลิกอนคาร์ไบด์ (SIC) ได้รับความต้านทานความร้อนและความต้านทานเชิงกลของกราไฟท์ที่มีความแข็งแรงสูงรวมกับความเสถียรทางเคมีและความทนทานของพื้นผิวของ SIC แผ่นเคลือบ Semicorex sic ถูกสร้างขึ้นเพื่อรักษาความแข็งแกร่งที่รุนแรงของกระบวนการ epitaxial สำหรับสารประกอบเซมิคอนดักเตอร์ผสมรวมถึง SIC และ GAN

แกนกราไฟท์ของแผ่นเคลือบ SIC มีค่าการนำความร้อนที่โดดเด่นความหนาแน่นต่ำและความต้านทานการกระแทกด้วยความร้อนที่เหนือกว่า มวลความร้อนต่ำปานกลางของแกนกราไฟท์ที่สมดุลด้วยการนำความร้อนที่ยอดเยี่ยมช่วยให้การกระจายความร้อนอย่างรวดเร็วอย่างเท่าเทียมกันในกระบวนการที่วัฏจักรอุณหภูมิเกิดขึ้นด้วยความเร็วสูง ชั้นนอกของ SIC ที่สะสมโดยการสะสมไอสารเคมี (CVD) นำเสนออุปสรรคป้องกันที่เพิ่มความแข็งความต้านทานการกัดกร่อนและความเฉื่อยทางเคมีซึ่งให้คุณค่าทันทีในการ จำกัด หรือป้องกันการสร้างอนุภาค พื้นผิวองค์ประกอบที่เป็นของแข็งนี้รวมกับลักษณะทางกายภาพของฐานกราไฟท์ทำให้มั่นใจได้ถึงสภาพแวดล้อมกระบวนการที่มีความบริสุทธิ์สูงมากโดยมีความเสี่ยงน้อยมากหรือไม่มีเลยในการสร้างข้อบกพร่องในชั้น epitaxial

ความแม่นยำมิติและความเรียบของพื้นผิวยังเป็นคุณลักษณะที่จำเป็นของแผ่นเคลือบ SIC แต่ละแผ่นมีการกลึงและเคลือบด้วยความคลาดเคลื่อนอย่างแน่นหนาเพื่อให้แน่ใจว่าสม่ำเสมอและความสามารถในการทำซ้ำในประสิทธิภาพของกระบวนการ พื้นผิวที่เรียบและเฉื่อยช่วยลดพื้นที่นิวเคลียสสำหรับการสะสมของฟิล์มที่ไม่พึงประสงค์และปรับปรุงความสม่ำเสมอของเวเฟอร์บนพื้นผิวแผ่น

ในเครื่องปฏิกรณ์ epitaxial แผ่นเคลือบ SIC มักจะถูกนำมาใช้เป็นไวรัส, ซับหรือโล่ความร้อนเพื่อให้โครงสร้างและทำหน้าที่เป็นสื่อการถ่ายเทความร้อนไปยังเวเฟอร์ที่ถูกประมวลผล ประสิทธิภาพที่เสถียรจะส่งผลโดยตรงต่อคุณภาพของผลผลิตผลผลิตและผลผลิต