การเคลือบ SiC เป็นชั้นบางๆ บนตัวรับผ่านกระบวนการสะสมไอสารเคมี (CVD) วัสดุซิลิคอนคาร์ไบด์มีข้อได้เปรียบเหนือซิลิคอนหลายประการ รวมถึงความแรงของสนามไฟฟ้าที่พังทลาย 10 เท่า, ช่องว่างของแถบความถี่ 3 เท่า ซึ่งทำให้วัสดุมีอุณหภูมิสูงและทนทานต่อสารเคมี ทนทานต่อการสึกหรอดีเยี่ยม ตลอดจนการนำความร้อน
Semicorex ให้บริการที่ปรับแต่งตามความต้องการ ช่วยให้คุณสร้างสรรค์สิ่งใหม่ๆ ด้วยส่วนประกอบที่มีอายุการใช้งานยาวนานขึ้น ลดรอบเวลา และเพิ่มผลผลิต
การเคลือบ SiC มีข้อดีเฉพาะหลายประการ
ความต้านทานต่ออุณหภูมิสูง: ตัวรับเคลือบ CVD SiC สามารถทนต่ออุณหภูมิสูงถึง 1600°C โดยไม่ผ่านการย่อยสลายจากความร้อนอย่างมีนัยสำคัญ
ความทนทานต่อสารเคมี: การเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์ให้ความต้านทานที่ดีเยี่ยมต่อสารเคมีหลายชนิด รวมถึงกรด ด่าง และตัวทำละลายอินทรีย์
ความต้านทานการสึกหรอ: การเคลือบ SiC ทำให้วัสดุมีความต้านทานการสึกหรอดีเยี่ยม ทำให้เหมาะสำหรับการใช้งานที่มีการสึกหรอและการฉีกขาดสูง
การนำความร้อน: การเคลือบ CVD SiC ทำให้วัสดุมีค่าการนำความร้อนสูง ทำให้เหมาะสำหรับใช้ในการใช้งานที่อุณหภูมิสูงซึ่งต้องการการถ่ายเทความร้อนอย่างมีประสิทธิภาพ
ความแข็งแรงและความแข็งสูง: ตัวรับเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์ทำให้วัสดุมีความแข็งแรงและความแข็งสูง ทำให้เหมาะสำหรับการใช้งานที่ต้องการความแข็งแรงเชิงกลสูง
การเคลือบ SiC ใช้ในงานต่างๆ
การผลิต LED: ตัวรับเคลือบ CVD SiC ใช้ในการผลิตการประมวลผลของ LED ประเภทต่างๆ รวมถึง LED สีน้ำเงินและสีเขียว, LED UV และ LED UV ระดับลึก เนื่องจากมีการนำความร้อนสูงและทนต่อสารเคมี
การสื่อสารเคลื่อนที่: ตัวรับที่เคลือบ CVD SiC เป็นส่วนสำคัญของ HEMT เพื่อทำให้กระบวนการเอพิแทกเซียล GaN-on-SiC เสร็จสมบูรณ์
การประมวลผลเซมิคอนดักเตอร์: ตัวรับที่เคลือบ CVD SiC ใช้ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์สำหรับการใช้งานที่หลากหลาย รวมถึงการประมวลผลแผ่นเวเฟอร์และการเจริญเติบโตของเยื่อบุผิว
ส่วนประกอบกราไฟท์เคลือบ SiC
ผลิตจากกราไฟท์เคลือบซิลิคอนคาร์ไบด์ (SiC) การเคลือบจะถูกเคลือบโดยวิธี CVD กับเกรดเฉพาะของกราไฟท์ความหนาแน่นสูง จึงสามารถทำงานในเตาอุณหภูมิสูงที่มีอุณหภูมิสูงกว่า 3000 °C ในบรรยากาศเฉื่อย และ 2,200°C ในสุญญากาศ .
คุณสมบัติพิเศษและมวลที่ต่ำของวัสดุช่วยให้อัตราการทำความร้อนรวดเร็ว การกระจายอุณหภูมิสม่ำเสมอ และความแม่นยำที่โดดเด่นในการควบคุม
ข้อมูลวัสดุของการเคลือบ Semicorex SiC
คุณสมบัติทั่วไป |
หน่วย |
ค่านิยม |
โครงสร้าง |
|
เฟส FCC β |
ปฐมนิเทศ |
เศษส่วน (%) |
111 ที่ต้องการ |
ความหนาแน่นเป็นกลุ่ม |
กรัม/ซม.³ |
3.21 |
ความแข็ง |
ความแข็งของวิคเกอร์ |
2500 |
ความจุความร้อน |
เจ กก-1 K-1 |
640 |
การขยายตัวทางความร้อน 100–600 °C (212–1112 °F) |
10-6K-1 |
4.5 |
โมดูลัสของยัง |
เกรดเฉลี่ย (โค้ง 4 พอยต์, 1300°C) |
430 |
ขนาดเกรน |
ไมโครเมตร |
2~10 |
อุณหภูมิระเหิด |
℃ |
2700 |
ความแข็งแกร่งของเฟล็กซ์เจอร์ |
MPa (RT 4 จุด) |
415 |
การนำความร้อน |
(W/mK) |
300 |
สรุป ตัวรับเคลือบ SiC เคลือบ CVD เป็นวัสดุคอมโพสิตที่รวมคุณสมบัติของตัวรับและซิลิคอนคาร์ไบด์เข้าด้วยกัน วัสดุนี้มีคุณสมบัติเฉพาะตัว เช่น ทนต่ออุณหภูมิและสารเคมีสูง ทนต่อการสึกหรอดีเยี่ยม มีการนำความร้อนสูง และมีความแข็งแรงและความแข็งสูง คุณสมบัติเหล่านี้ทำให้เป็นวัสดุที่น่าสนใจสำหรับการใช้งานที่อุณหภูมิสูงต่างๆ รวมถึงการแปรรูปเซมิคอนดักเตอร์ การแปรรูปทางเคมี การอบชุบด้วยความร้อน การผลิตเซลล์แสงอาทิตย์ และการผลิต LED
ตัวจับยึดเวเฟอร์กัดกรด ICP ของ Semicorex เป็นโซลูชันที่สมบูรณ์แบบสำหรับกระบวนการจัดการเวเฟอร์ที่มีอุณหภูมิสูง เช่น เอพิแทกซีและ MOCVD ด้วยความต้านทานต่อออกซิเดชันที่อุณหภูมิสูงและเสถียรถึง 1600°C ตัวพาของเราจึงรับประกันโปรไฟล์ความร้อน รูปแบบการไหลของก๊าซแบบลามินาร์ และป้องกันการปนเปื้อนหรือการแพร่กระจายของสิ่งเจือปน
อ่านเพิ่มเติมส่งคำถามICP Etching Carrier Plate ของ Semicorex เป็นโซลูชั่นที่สมบูรณ์แบบสำหรับการจัดการแผ่นเวเฟอร์และกระบวนการสะสมฟิล์มบางที่มีความต้องการสูง ผลิตภัณฑ์ของเราให้ความร้อนและการกัดกร่อนที่เหนือกว่า ความสม่ำเสมอของความร้อน และรูปแบบการไหลของก๊าซแบบลามิเนต ด้วยพื้นผิวที่สะอาดและเรียบเนียน ถาดใส่ของเราจึงเหมาะอย่างยิ่งสำหรับการจัดการเวเฟอร์ที่ใสสะอาด
อ่านเพิ่มเติมส่งคำถามตัวยึดเวเฟอร์ของ Semicorex สำหรับกระบวนการแกะสลัก ICP เป็นตัวเลือกที่สมบูรณ์แบบสำหรับการจัดการเวเฟอร์และกระบวนการสะสมฟิล์มบางที่มีความต้องการสูง ผลิตภัณฑ์ของเรามีความต้านทานความร้อนและการกัดกร่อนที่เหนือกว่า ความสม่ำเสมอของความร้อน และรูปแบบการไหลของก๊าซแบบลามินาร์ที่เหมาะสมที่สุดเพื่อผลลัพธ์ที่สม่ำเสมอและเชื่อถือได้
อ่านเพิ่มเติมส่งคำถามกราไฟท์เคลือบซิลิคอนคาร์บอน ICP ของ Semicorex เป็นตัวเลือกที่ดีเยี่ยมสำหรับกระบวนการจัดการแผ่นเวเฟอร์และกระบวนการสะสมฟิล์มบางที่มีความต้องการสูง ผลิตภัณฑ์ของเรามีความต้านทานความร้อนและการกัดกร่อนที่เหนือกว่า ความสม่ำเสมอของความร้อน และรูปแบบการไหลของก๊าซแบบลามิเนตที่เหมาะสมที่สุด
อ่านเพิ่มเติมส่งคำถามเลือกระบบการกัดพลาสม่า ICP ของ Semicorex สำหรับกระบวนการ PSS สำหรับกระบวนการเอพิแทกซีและ MOCVD คุณภาพสูง ผลิตภัณฑ์ของเราได้รับการออกแบบทางวิศวกรรมมาโดยเฉพาะสำหรับกระบวนการเหล่านี้ โดยให้ความต้านทานความร้อนและการกัดกร่อนที่เหนือกว่า ด้วยพื้นผิวที่สะอาดและเรียบเนียน ถาดใส่ของเราจึงเหมาะอย่างยิ่งสำหรับการจัดการเวเฟอร์ที่ใสสะอาด
อ่านเพิ่มเติมส่งคำถามแผ่นแกะสลักพลาสม่า ICP ของ Semicorex ให้ความต้านทานความร้อนและการกัดกร่อนที่เหนือกว่าสำหรับการจัดการแผ่นเวเฟอร์และกระบวนการสะสมฟิล์มบาง ผลิตภัณฑ์ของเราได้รับการออกแบบทางวิศวกรรมให้ทนทานต่ออุณหภูมิสูงและการทำความสะอาดด้วยสารเคมีที่รุนแรง จึงมั่นใจได้ถึงความทนทานและอายุการใช้งานที่ยาวนาน ด้วยพื้นผิวที่สะอาดและเรียบเนียน ถาดใส่ของเราจึงเหมาะอย่างยิ่งสำหรับการจัดการเวเฟอร์ที่ใสสะอาด
อ่านเพิ่มเติมส่งคำถาม