ทาซีโค้ทติ้งฮาล์ฟมูน

Semicorex TaC Coating Half-moon เป็นส่วนประกอบพิเศษที่สร้างขึ้นจากกราไฟท์เคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์ (TaC) ซึ่งออกแบบมาเพื่อใช้ในกระบวนการเอพิเทแอกเซียล การเคลือบ TaC แบบฮาล์ฟมูนนี้ใช้ประโยชน์จากคุณสมบัติพิเศษของ TaC ซึ่งรวมถึงจุดหลอมเหลวสูง การนำความร้อนที่เหนือกว่า และความเสถียรทางเคมีที่โดดเด่น ทำให้เหมาะสำหรับสภาพแวดล้อมการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ที่มีความต้องการสูง

คุณสมบัติที่สำคัญ:

องค์ประกอบของวัสดุ: กราไฟท์เคลือบ TaC เพื่อความทนทานและประสิทธิภาพที่เพิ่มขึ้น

การใช้งาน: ปรับให้เหมาะสมสำหรับกระบวนการเอพิแทกเซียลและเครื่องปฏิกรณ์ LPE

เสถียรภาพทางความร้อน: ทนความร้อนได้ดีเยี่ยมและทนทานต่อสภาวะที่มีอุณหภูมิสูง

ความต้านทานต่อสารเคมี: ความต้านทานที่เหนือกว่าต่อสภาพแวดล้อมที่มีฤทธิ์กัดกร่อน ทำให้มั่นใจได้ถึงอายุการใช้งานที่ยาวนานและความน่าเชื่อถือ

รูปร่าง: การออกแบบรูปพระจันทร์ครึ่งเสี้ยวเพื่อความพอดีและการทำงานที่เหมาะสมที่สุดภายในการตั้งค่าเครื่องปฏิกรณ์

การเคลือบ TaC แบบฮาล์ฟมูนเป็นส่วนประกอบสำคัญสำหรับมืออาชีพที่ต้องการเพิ่มประสิทธิภาพกระบวนการเอพิแทกเซียล และปรับปรุงประสิทธิภาพและคุณภาพโดยรวมของการผลิตเซมิคอนดักเตอร์