> ข่าว

ข่าว

ข้อบกพร่องร้ายแรงของ GaN

ในขณะที่โลกค้นหาโอกาสใหม่ๆ ในด้านเซมิคอนดักเตอร์ แกลเลียมไนไตรด์ (GaN) ยังคงโดดเด่นในฐานะตัวเลือกที่มีศักยภาพสำหรับการใช้งานด้านพลังงานและ RF ในอนาคต อย่างไรก็ตาม แม้จะมีประโยชน์มากมาย GaN ก็เผชิญกับความท้าทายที่สำคัญ นั่นคือ การไม่มีผลิตภัณฑ์ประเภท P เหตุใด GaN จึงได้รับการยกย่องว่าเป็นวัสดุเซมิคอน......

อ่านเพิ่มเติม

การขัดพื้นผิวของเวเฟอร์ซิลิคอน

การขัดพื้นผิวแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอนเป็นกระบวนการสำคัญในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เป้าหมายหลักคือการบรรลุมาตรฐานที่สูงมากในด้านความเรียบและความหยาบของพื้นผิว โดยการกำจัดข้อบกพร่องเล็กๆ ชั้นของความเสียหายจากความเครียด และการปนเปื้อนจากสิ่งสกปรก เช่น ไอออนของโลหะ

อ่านเพิ่มเติม

การวางแนวคริสตัลและข้อบกพร่องในซิลิคอนเวเฟอร์

<...8 9 10 11 12...37 >

ข่าว

ข้อบกพร่องร้ายแรงของ GaN

การขัดพื้นผิวของเวเฟอร์ซิลิคอน

การวางแนวคริสตัลและข้อบกพร่องในซิลิคอนเวเฟอร์

การประมวลผลพื้นผิวคริสตัลเดี่ยว SiC

ขอแนะนำวัสดุซิลิกอน

เหตุใดจึงมีความต้องการเซรามิก SiC การนำความร้อนสูงในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์เพิ่มขึ้น