ถาดใส่สลัก PSS สำหรับ LED

ที่ Semicorex เราได้ออกแบบ PSS Etching Carrier Tray สำหรับ LED โดยเฉพาะสำหรับสภาพแวดล้อมที่รุนแรงซึ่งจำเป็นสำหรับการเจริญเติบโตของเยื่อบุผิวและกระบวนการจัดการแผ่นเวเฟอร์ ตัวพากราไฟท์บริสุทธิ์พิเศษของเราเหมาะอย่างยิ่งสำหรับขั้นตอนการสะสมของฟิล์มบาง เช่น MOCVD, ตัวรับ epitaxy, แพลตฟอร์มแพนเค้กหรือดาวเทียม และการประมวลผลการจัดการแผ่นเวเฟอร์ เช่น การแกะสลัก ตัวพาเคลือบ SiC มีความต้านทานความร้อนและการกัดกร่อนสูง คุณสมบัติการกระจายความร้อนที่ดีเยี่ยม และการนำความร้อนสูง ถาดใส่สลัก PSS สำหรับ LED ของเรามีความคุ้มค่าและให้ข้อได้เปรียบด้านราคาที่ดี เราให้ความสำคัญกับตลาดยุโรปและอเมริกาจำนวนมาก และหวังว่าจะเป็นพันธมิตรระยะยาวของคุณในประเทศจีน

ส่งคำถาม

รายละเอียดสินค้า

PSS Etching Carrier Tray สำหรับ LED ของ Semicorex ได้รับการออกแบบมาเพื่อสภาพแวดล้อมที่รุนแรงซึ่งจำเป็นสำหรับการเจริญเติบโตของเยื่อบุผิวและกระบวนการจัดการแผ่นเวเฟอร์ ตัวพากราไฟท์บริสุทธิ์พิเศษของเราได้รับการออกแบบมาเพื่อรองรับเวเฟอร์ในระหว่างขั้นตอนการสะสมของฟิล์มบาง เช่น MOCVD และตัวรับความรู้สึกของเอพิแทกซี แพลตฟอร์มแพนเค้ก หรือดาวเทียม ตัวพาเคลือบ SiC มีความต้านทานความร้อนและการกัดกร่อนสูง คุณสมบัติการกระจายความร้อนที่ดีเยี่ยม และการนำความร้อนสูง ผลิตภัณฑ์ของเรามีความคุ้มค่าและมีความได้เปรียบด้านราคาที่ดี เราให้ความสำคัญกับตลาดยุโรปและอเมริกาจำนวนมาก และหวังว่าจะเป็นพันธมิตรระยะยาวของคุณในประเทศจีน

ติดต่อเราวันนี้เพื่อเรียนรู้เพิ่มเติมเกี่ยวกับ PSS Etching Carrier Tray สำหรับ LED

พารามิเตอร์ของถาดผู้ให้บริการแกะสลัก PSS สำหรับ LED

ข้อมูลจำเพาะหลักของการเคลือบ CVD-SIC
คุณสมบัติ SiC-CVD
โครงสร้างคริสตัล	เฟส FCC β
ความหนาแน่น	กรัม/ซม. ³	3.21
ความแข็ง	ความแข็งของวิคเกอร์	2500
ขนาดเกรน	ไมโครเมตร	2~10
ความบริสุทธิ์ของสารเคมี	%	99.99995
ความจุความร้อน	เจ กก-1 K-1	640
อุณหภูมิระเหิด	℃	2700
ความแข็งแกร่งของเฟล็กซ์เจอร์	MPa (RT 4 จุด)	415
โมดูลัสของยัง	เกรดเฉลี่ย (โค้ง 4 พอยต์, 1300°C)	430
การขยายความร้อน (C.T.E)	10-6K-1	4.5
การนำความร้อน	(W/mK)	300