PSS Handling Carrier สำหรับการถ่ายโอนเวเฟอร์

อุปกรณ์ลำเลียง PSS Handling Carrier ของ Semicorex สำหรับการถ่ายโอนเวเฟอร์ได้รับการออกแบบทางวิศวกรรมมาสำหรับการใช้งานอุปกรณ์ epitaxy ที่มีความต้องการมากที่สุด ตัวพากราไฟท์บริสุทธิ์พิเศษของเราสามารถทนต่อสภาพแวดล้อมที่รุนแรง อุณหภูมิสูง และการทำความสะอาดสารเคมีที่รุนแรง ตัวพาเคลือบ SiC มีคุณสมบัติการกระจายความร้อนที่ดีเยี่ยม มีการนำความร้อนสูง และคุ้มค่า ผลิตภัณฑ์ของเรามีการใช้กันอย่างแพร่หลายในตลาดยุโรปและอเมริกาหลายแห่ง และเราหวังเป็นอย่างยิ่งว่าจะได้เป็นพันธมิตรระยะยาวของคุณในประเทศจีน

ส่งคำถาม

รายละเอียดสินค้า

ตัวพาหะการจัดการ PSS สำหรับการถ่ายโอนเวเฟอร์จาก Semicorex ได้รับการออกแบบมาเพื่อตอบสนองข้อกำหนดในการทำความสะอาดด้วยสารเคมีที่รุนแรงและอุณหภูมิสูงสำหรับการเจริญเติบโตของส่วนนอกและกระบวนการจัดการเวเฟอร์ ตัวพากราไฟท์บริสุทธิ์พิเศษของเราเหมาะอย่างยิ่งสำหรับขั้นตอนการสะสมของฟิล์มบาง เช่น MOCVD, ตัวรับ epitaxy, แพลตฟอร์มแพนเค้กหรือดาวเทียม และการประมวลผลการจัดการแผ่นเวเฟอร์ เช่น การแกะสลัก ตัวพาเคลือบ SiC มีคุณสมบัติการกระจายความร้อนที่ดีเยี่ยม มีการนำความร้อนสูง และคุ้มค่า

ติดต่อเราวันนี้เพื่อเรียนรู้เพิ่มเติมเกี่ยวกับ PSS Handling Carrier สำหรับการถ่ายโอนเวเฟอร์

พารามิเตอร์ของ PSS Handling Carrier สำหรับการถ่ายโอนเวเฟอร์

ข้อมูลจำเพาะหลักของการเคลือบ CVD-SIC
คุณสมบัติ SiC-CVD
โครงสร้างคริสตัล	เฟส FCC β
ความหนาแน่น	กรัม/ซม. ³	3.21
ความแข็ง	ความแข็งของวิคเกอร์	2500
ขนาดเกรน	ไมโครเมตร	2~10
ความบริสุทธิ์ของสารเคมี	%	99.99995
ความจุความร้อน	เจ กก-1 K-1	640
อุณหภูมิระเหิด	℃	2700
ความแข็งแกร่งของเฟล็กซ์เจอร์	MPa (RT 4 จุด)	415
โมดูลัสของยัง	เกรดเฉลี่ย (โค้ง 4 พอยต์, 1300°C)	430
การขยายความร้อน (C.T.E)	10-6K-1	4.5
การนำความร้อน	(W/mK)	300