ท่อกระบวนการสำหรับเตากระจาย

ท่อกระบวนการ Semicorex สำหรับเตาหลอมแบบกระจาย โดยทั่วไปทำจาก SiC ที่มีความบริสุทธิ์สูงพร้อมการเคลือบ CVD SiC วัสดุเหล่านี้ถูกเลือกเนื่องจากมีความเสถียรทางความร้อนที่ดีเยี่ยมและทนทานต่อก๊าซที่มีฤทธิ์กัดกร่อนและอุณหภูมิสูง

ท่อกระบวนการ Semicorex สำหรับเตาหลอมกระจายมีรูปทรงทรงกระบอก โดยมีปลายปิดและปลายเปิด มันถูกแทรกเข้าไปในเตาแพร่กระจาย ทำให้เกิดห้องที่ปิดสนิทซึ่งเกิดกระบวนการแพร่กระจาย ท่อได้รับการออกแบบอย่างระมัดระวังเพื่อป้องกันการรั่วไหลของก๊าซและรักษาบรรยากาศที่ควบคุมภายในเตาเผา

ท่อกระบวนการสำหรับเตาแพร่กระจายมีบทบาทสำคัญในการผลิตอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ โดยให้สภาพแวดล้อมที่มีการควบคุมสำหรับกระบวนการแพร่ ทำให้มั่นใจได้ว่าโปรไฟล์การเติมจะสม่ำเสมอและควบคุมพารามิเตอร์ของกระบวนการได้อย่างแม่นยำ การใช้วัสดุที่มีความบริสุทธิ์สูงและการพิจารณาการออกแบบอย่างรอบคอบช่วยรักษาความสมบูรณ์ของท่อกระบวนการ และรับประกันการผลิตเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์คุณภาพสูง