ซิค ฟิน

Semicorex SiC Fin เป็นส่วนประกอบประสิทธิภาพสูงที่ทำจากเซรามิกซิลิคอนคาร์ไบด์ได้รับการออกแบบมาเพื่อใช้ในระบบ epitaxy และการแกะสลักของเซมิคอนดักเตอร์ SiC Fin ออกแบบมาเป็นชิ้นส่วนรูปดิสก์ทรงกลมซึ่งมีรูเจาะต่างๆ ที่มีเส้นผ่านศูนย์กลางต่างกัน เป็นส่วนประกอบที่สำคัญสำหรับวัสดุที่มีลวดลายการไหลและการจัดการไอเสียของก๊าซหรือของเสียที่เป็นของเหลวในระหว่างการประมวลผลที่อุณหภูมิสูงหรือพลาสมา เนื่องจากประสิทธิภาพของโครงสร้าง ความต้านทานการกัดกร่อนที่ดีเยี่ยม และความเสถียรทางความร้อนสูง SiC Fin จึงมีความสำคัญอย่างยิ่งต่อการผลิตขั้นสูงสำหรับเซมิคอนดักเตอร์

SiC Fin ผลิตจากความบริสุทธิ์สูงซิลิคอนคาร์ไบด์ผงโดยใช้กระบวนการขึ้นรูปและการเผาขั้นสูง ดังนั้นจึงมีความแข็งแรงเชิงกลและเสถียรภาพที่ดีเยี่ยมในสภาวะความร้อนและสารเคมีสูง คุณสมบัติทางกายภาพอันเป็นเอกลักษณ์ของซิลิคอนคาร์ไบด์ เช่น ความแข็งสูง การขยายตัวทางความร้อนต่ำ และความเฉื่อยทางเคมีที่ดีเยี่ยม ทำให้ครีบเป็นส่วนประกอบโครงสร้างในพลาสมาที่อุณหภูมิสูงหรือสภาพแวดล้อมของก๊าซที่เกิดปฏิกิริยา ซึ่งเป็นคุณลักษณะของ EPI และกระบวนการกัดกรด

โครงสร้างจานดิสก์ของส่วนประกอบพร้อมรูที่เจาะอย่างแม่นยำ ช่วยให้สามารถควบคุมการไหลของก๊าซและของเหลวได้ตลอดทั้งห้องกระบวนการ สามารถกำหนดค่ารูต่างๆ เพื่อจัดการการไหลของผลพลอยได้หรือการระบายน้ำ เพื่อสภาพแวดล้อมที่สะอาดและมั่นคงในระหว่างกระบวนการเวเฟอร์ ทั้งนี้ขึ้นอยู่กับการใช้งาน ตัวอย่างเช่น ในการใช้งานแบบปิดผิว SiC Fin สามารถช่วยในการควบคุมการไหลของก๊าซหรือคอนเดนเสทในกระบวนการ ซึ่งจะช่วยเพิ่มความสม่ำเสมอของฟิล์มและลดการปนเปื้อนของอนุภาคให้เหลือน้อยที่สุด ในเครื่องมือกัดกรด มีประสิทธิภาพในการกำจัดสายพันธุ์ที่เกิดปฏิกิริยาและผลพลอยได้จากของเหลวอย่างปลอดภัยและมีประสิทธิภาพ เพื่อปกป้องส่วนประกอบในห้องที่มีช่องโหว่จากการย่อยสลายทางเคมี

Semicorex SiC Fin แต่ละตัวผลิตขึ้นโดยมีพิกัดความเผื่อต่ำมากและผ่านการขัดเงาเพื่อให้พื้นผิวเรียบและความแม่นยำของมิติที่ดีเยี่ยม ความแม่นยำในการผลิตนี้ทำให้มั่นใจได้ถึงประสิทธิภาพที่เชื่อถือได้เมื่อรวมเข้ากับระบบที่ซับซ้อน และยังคงรักษาฟังก์ชันการทำงานที่สม่ำเสมอสำหรับการดำเนินงานเป็นระยะเวลานาน SiC Fin เข้ากันได้กับการออกแบบเครื่องปฏิกรณ์ทั้งหมด และสามารถผลิตตามขนาดเส้นผ่านศูนย์กลาง ความหนา และรูปแบบรูตามความต้องการของลูกค้าได้ Semicorex สามารถนำเสนอการออกแบบที่กำหนดเองเพื่อเพิ่มประสิทธิภาพการทำงานสำหรับตัวแปรกระบวนการ เช่น อัตราการไหล รูปทรงของห้องเพาะเลี้ยง และอุณหภูมิ

นอกเหนือจากฟังก์ชันการทำงานที่หลากหลายแล้ว SiC Fin ยังมีความทนทานและอายุการใช้งานที่ยาวนานเป็นพิเศษเมื่อเปรียบเทียบกับวัสดุอื่นๆ มีความทนทานสูงต่อการเกิดออกซิเดชัน การกัดเซาะของพลาสมา และการกัดกร่อนของสารเคมี ซึ่งช่วยลดความถี่ในการเปลี่ยนชิ้นส่วนและลดเวลาหยุดทำงานของระบบ นอกจากนี้ การนำความร้อนของซิลิคอนคาร์ไบด์ยังช่วยให้สามารถกระจายความร้อนเพื่อจัดการการไล่ระดับความร้อนในอุปกรณ์ หลีกเลี่ยงการบิดเบี้ยวหรือการแตกร้าวที่ไม่พึงประสงค์ในระหว่างการหมุนเวียนของอุณหภูมิอย่างรวดเร็ว

Semicorex ใช้ขั้นสูงเซรามิกความสามารถในการประมวลผลและการเคลือบ CVD เพื่อให้ SiC Fin ที่ผลิตมีความบริสุทธิ์และความสม่ำเสมอสูงสุด SiC Fin แต่ละตัวยังได้รับการตรวจสอบความหนาแน่น ความสม่ำเสมอของโครงสร้างจุลภาค และความสมบูรณ์ของพื้นผิว เพื่อให้มั่นใจว่าเป็นไปตามข้อกำหนดที่ต้องการของอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ส่งผลให้ส่วนประกอบมีความสมบูรณ์ทางกลและทนทานเพื่อการทำงานที่มั่นคงและระยะยาวในสภาพแวดล้อมที่รุนแรง

Semicorex SiC Fin เป็นผลจากวิทยาการวัสดุและเทคโนโลยีวิศวกรรมล้ำสมัย ไม่เพียงแต่สร้างการไหลของไอเสียและของเหลวที่มีประสิทธิภาพเท่านั้น แต่ยังมีส่วนช่วยในเรื่องความสะอาดและความน่าเชื่อถือของระบบเอพิแทกซีและการกัดทั้งหมดอีกด้วย โดยผสมผสานความแข็งแรงเชิงกล ความเสถียรทางความร้อน และอายุการใช้งานที่ยาวนานของการกัดกร่อน เพื่อมอบประสบการณ์ที่สม่ำเสมอยิ่งขึ้นสำหรับการใช้งานในการประมวลผลเซมิคอนดักเตอร์