หลอดออกซิเดชัน sic

ท่อออกซิเดชัน Semicorex sic สร้างขึ้นจากเซรามิกซิลิกอนคาร์ไบด์ที่มีความบริสุทธิ์สูงที่ออกแบบมาสำหรับการออกซิเดชั่นการแพร่กระจายหรือกระบวนการหลอมมักจะดำเนินการที่อุณหภูมิ 1600 ° C ในฐานะที่เป็นส่วนหนึ่งของเตาหลอม SIC แนวนอนหรือแนวตั้งนี่คือสภาพแวดล้อมที่ควบคุมได้ซึ่งเวเฟอร์จะถูกทำให้ร้อนในขณะที่ออกซิไดซ์ ฟังก์ชั่นของหลอดออกซิเดชั่นคือการให้สภาพแวดล้อมที่สะอาดสม่ำเสมอและมีเสถียรภาพสำหรับการรักษาด้วยความร้อนของเวเฟอร์ซิลิกอนคาร์ไบด์ (SIC) ในการผลิตอุปกรณ์ไฟฟ้าและเซมิคอนดักเตอร์ bandgap กว้าง ในขณะที่หลอดควอตซ์และอลูมินามักจะพบว่ามีการทำลายลงเมื่อเวลาผ่านไปผ่านการกำจัด devitrification, การแปรปรวนหรือการสลายทางเคมี, ซิลิกอนคาร์ไบด์มีความทนทานที่ยอดเยี่ยมต่อความท้าทายในการช็อกความร้อนการเพิ่มประสิทธิภาพเชิงกลและความเฉื่อยทางเคมี ปัจจัยเหล่านี้ให้ซิลิกอนคาร์ไบด์เป็นตัวเลือกที่ยอดเยี่ยมสำหรับหลอดออกซิเดชั่นในสภาพแวดล้อมที่น่าเชื่อถือสูง

การใช้รูปแบบขั้นสูงของการขึ้นรูปเช่นการกดแบบเย็น isostatic และการเผาไหม้แบบไร้แรงดัน (หรือการตกผลึกซ้ำซาก) เซมิคอร์ซ์สร้างหลอดออกซิเดชันของ SIC ที่มีโครงสร้างจุลภาคที่หนาแน่นแก๊สและเป็นเนื้อเดียวกัน สิ่งนี้ให้ความแข็งแรงโดยไม่มีความเสี่ยงต่อความพรุนทำให้กระบวนการออกซิเดชั่นดำเนินต่อไปโดยไม่มีการปนเปื้อน SIC มีค่าการนำความร้อนสูงมากช่วยให้สามารถกระจายความร้อนที่สม่ำเสมอไปยังโซนโหลดเวเฟอร์และลดการไล่ระดับความร้อนที่อาจทำให้เกิดเวเฟอร์หรือข้อบกพร่องที่บิดเบี้ยว ความต้านทานของหลอดต่อกรดฐานและก๊าซปฏิกิริยาป้องกันการปฏิสัมพันธ์ทางเคมีที่ไม่พึงประสงค์กับพื้นผิวเวเฟอร์และผ่านสภาพแวดล้อมของเตาหลอมเช่นกัน

มันไม่คืบคลานมันไม่ทำให้เสียโฉม หลอดไม่จำเป็นต้องถูกแทนที่หลังจากการผลิตหลายรอบ-มันเป็นสภาพแวดล้อมการขี่จักรยานความร้อนในระยะยาวซึ่งจะทำลายวัสดุที่น้อยลง ดังนั้นจึงไม่มีการหยุดชะงักความถี่สูงหมายถึงค่าใช้จ่ายในการดำเนินงานต่ำและสิ่งนี้จะช่วยให้กระบวนการไหลเวียนโดยไม่มีการหยุดชะงักใด ๆ นอกจากนี้ยังช่วยลดความเสี่ยงต่อการปนเปื้อนที่สามารถลดประสิทธิภาพการให้ผลผลิตได้อย่างง่ายดายในอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์รุ่นต่อไปที่การติดตามสิ่งสกปรกมีบทบาทสำคัญ Semicorex ผลิตขนาดหลอดมาตรฐานและแบบปรับแต่งได้อย่างสมบูรณ์สำหรับแพลตฟอร์มเตาและสูตรที่ใช้ เส้นผ่านศูนย์กลางด้านในและด้านนอกความยาวความหนาของผนังและผิวผิวเป็นพารามิเตอร์ทั้งหมดที่อาจต้องมีการปรับเพื่อตอบสนองความต้องการด้านความร้อนและกลไกเฉพาะที่แตกต่างกัน จากเตาเผา R&D ในห้องปฏิบัติการจนถึงสายการผลิตขนาดใหญ่-ในแต่ละกรณีที่หลอดต้องการการตัดเฉือนการทำความสะอาดและการตรวจสอบเพื่อรับประกันประสิทธิภาพ

การควบคุมคุณภาพเริ่มต้นด้วยการตรวจสอบมิติการทดสอบความหนาแน่นของวัสดุและการตรวจสอบความน่าเชื่อถือของวัฏจักรความร้อนสำหรับหลอดออกซิเดชั่น SIC ทุกหลอด ระบบตรวจสอบย้อนกลับของวัสดุที่แข็งแกร่งบันทึกผลิตภัณฑ์จากขั้นตอนผงดิบจนถึงการตรวจสอบขั้นสุดท้าย คุณภาพแบบนั้นช่วยให้ลูกค้ามีความมั่นคงในระยะยาวและการทำซ้ำของหลอดออกซิเดชั่น SIC ของเรา

เลือก Semicorex และรับพันธมิตรในซัพพลายเออร์ที่รวมวิศวกรรมเซรามิกขั้นสูงเข้ากับการควบคุมกระบวนการที่กว้างขวางและการสนับสนุนทางเทคนิคที่ตอบสนองได้โดยการทำงานร่วมกันตั้งแต่ต้น เราเรียนรู้เกี่ยวกับสภาพแวดล้อมเตาหลอมข้อกำหนดกระบวนการและความท้าทายในการรวมของคุณเพื่อให้เราสามารถนำเสนอโซลูชั่นที่กำหนดเองเพื่อปรับปรุงผลลัพธ์กระบวนการของคุณรวมถึงเวลาการทำงานของเครื่องมือ

ท่อออกซิเดชันของ Semicorex sic มอบประสิทธิภาพความร้อนที่ดีที่สุดเท่าที่จะเป็นไปได้ด้วยความเสถียรทางเคมีและความแข็งแรงเชิงกล มันกลายเป็นหัวใจของระบบประมวลผล SIC ที่อุณหภูมิสูงโดยให้สภาพแวดล้อมทางความร้อนสม่ำเสมอในระหว่างการออกซิเดชั่นและวัสดุเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง สำหรับผู้ผลิตที่ต้องการส่วนประกอบของเตาหลอมให้เชื่อถือได้สะอาดและติดทนนานเซมิคอร์จะเป็นตัวเลือกผลิตภัณฑ์ที่ได้รับการสนับสนุนจากความรู้และประสบการณ์รวมถึงมาตรฐานการส่งมอบสิ่งที่ดีที่สุด