เรือเทปซิลิกอนคาร์ไบด์

เซมิคอร์เร็กซ์เรือเทปซิลิกอนคาร์ไบด์เป็นส่วนประกอบในการบรรทุกที่ขาดไม่ได้ โดยมีโครงสร้างที่มั่นคงและมีความแข็งแรงสูง สามารถยึด ถ่ายโอน และจัดการเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์หลายตัวได้อย่างปลอดภัยและแม่นยำ มีการใช้กันอย่างแพร่หลายในกระบวนการเซมิคอนดักเตอร์อุณหภูมิสูงต่างๆ เพื่อให้มั่นใจว่าการกระจายความร้อนและการไหลของก๊าซเหมาะสมที่สุดเพื่อผลลัพธ์การประมวลผลที่สม่ำเสมอ

คัดสรรวัตถุดิบอย่างพิถีพิถัน

เรือตลับซิลิกอนคาร์ไบด์ Semicorex ประดิษฐ์ขึ้นอย่างแม่นยำจากผงซิลิกอนคาร์ไบด์เกรดเซมิคอนดักเตอร์ผ่านการเผาผนึกที่อุณหภูมิสูง มีคุณสมบัติที่ยอดเยี่ยมดังต่อไปนี้

1. ความบริสุทธิ์สูงเป็นพิเศษ:ปริมาณสิ่งเจือปนของวัสดุพิมพ์ถูกควบคุมให้ต่ำกว่า 100 PPM และระดับสิ่งเจือปนของซีวีดี ซิลิคอน คาร์ไบด์การเคลือบสามารถเข้าถึงได้น้อยกว่า 1 PPM

2. ความต้านทานการกัดกร่อนที่เชื่อถือได้:เซรามิกซิลิคอนคาร์ไบด์ให้ความต้านทานการกัดกร่อนที่แข็งแกร่ง และทนทานต่อการกัดกร่อนจากกรดส่วนใหญ่ (เช่น กรดไฮโดรคลอริก กรดซัลฟูริก และกรดไฮโดรฟลูออริก) อัลคาลิส (เช่นโซดาไฟ) ตัวทำละลาย และตัวกลางออกซิไดซ์

3. ความสามารถในการจัดการระบายความร้อนที่ยอดเยี่ยม:ด้วยความต้านทานความร้อนที่ยอดเยี่ยมและค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อนต่ำ เรือคาสเซ็ตต์ซิลิกอนคาร์ไบด์สามารถรักษาคุณสมบัติทางเคมีและความแข็งแรงทางกลได้ แม้ว่าจะต้องเผชิญกับสภาวะการทำงานที่ยาวนานที่อุณหภูมิสูงถึงประมาณ 1250 °C

โครงสร้างทางวิศวกรรมที่มีความแม่นยำ

1. โครงสร้างกรอบแนวนอน:โครงสร้างเฟรมแนวนอนของเรือตลับซิลิกอนคาร์ไบด์ Semicorex ทำให้เข้ากันได้อย่างลงตัวกับท่อเตาเผาอุณหภูมิสูงในแนวนอน

2. รอยบากของช่องที่เว้นระยะเท่ากัน:เรือตลับซิลิกอนคาร์ไบด์ Semicorex มีรอยบากของช่องที่เว้นระยะห่างเท่ากันจำนวนมาก สามารถยึดแผ่นเวเฟอร์เข้าที่ได้อย่างแน่นหนา ซึ่งสามารถป้องกันรอยขีดข่วน รอยถลอก และความเสียหายที่ไม่พึงประสงค์ที่เกิดจากการเคลื่อนตัวของแผ่นเวเฟอร์ได้อย่างมาก จึงรับประกันความเสถียรของกระบวนการเซมิคอนดักเตอร์และผลผลิตของเวเฟอร์ได้อย่างมีประสิทธิภาพ

3. การออกแบบหลายช่อง:ช่องหลายช่องที่ออกแบบมาเพื่อรองรับเวเฟอร์หลายแผ่นช่วยให้เรือเทปซิลิกอนคาร์ไบด์ Semicorex ปรับปรุงปริมาณการประมวลผลชุดเดียวและประสิทธิภาพการผลิตโดยรวม

4. สถาปัตยกรรมแบบเปิด:เรือตลับซิลิกอนคาร์ไบด์ Semicorex ได้รับการติดตั้งด้วยสถาปัตยกรรมแบบเปิดที่คำนึงถึง ซึ่งสามารถช่วยให้เกิดการกระจายก๊าซที่สม่ำเสมอและการสัมผัสปฏิกิริยาที่เพียงพอ ซึ่งช่วยลดผลลัพธ์ของกระบวนการที่ไม่สอดคล้องกันได้อย่างมีประสิทธิภาพ