แผ่นแกะสลัก ICP ซิลิคอนคาร์ไบด์

แผ่นแกะสลัก ICP ซิลิคอนคาร์ไบด์มีความสามารถในการให้การสนับสนุนที่มั่นคงและการวางตำแหน่งที่แม่นยำสำหรับเวเฟอร์ในการแกะสลัก ได้อย่างมีประสิทธิภาพในการป้องกันการลดความแม่นยำในการแกะสลักที่เกิดจากการสั่นสะเทือนหรือการเคลื่อนตัว

แผ่นแกะสลัก ICP ของซิลิคอนคาร์ไบด์มีความสามารถในการจัดการระบายความร้อน การนำความร้อนที่เหนือกว่าของเอสไอซี เซรามิคช่วยให้แผ่นกัดกัด ICP ของซิลิคอนคาร์ไบด์สามารถกระจายความร้อนได้อย่างรวดเร็ว ซึ่งช่วยป้องกันความร้อนสูงเกินไปของชิ้นงาน และรับประกันความสม่ำเสมอของอุณหภูมิการกัด ซึ่งจะช่วยปรับปรุงคุณภาพการกัด เซรามิก SiC มีค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวจากความร้อนต่ำ ซึ่งช่วยให้แผ่นแกะสลัก ICP ของซิลิคอนคาร์ไบด์สามารถรักษาความเสถียรของขนาดได้ดี และลดการเคลื่อนตัวของชิ้นงานหรือการเสียรูปที่เกิดจากการขยายตัวเนื่องจากความร้อน

แผ่นกัดกัด ICP ของซิลิคอนคาร์ไบด์อาศัยคุณสมบัติความแข็งและความแข็งแรงที่ยอดเยี่ยม แสดงให้เห็นความสามารถในการทนต่อความเค้นเชิงกลและการกระแทกของพลาสมาที่พบในระหว่างกระบวนการกัดโดยมีการเสียรูปหรือความเสียหายน้อยที่สุด ความสามารถนี้ช่วยเพิ่มผลผลิตและประสิทธิภาพการผลิตของอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ได้อย่างมีประสิทธิภาพ

สภาพแวดล้อมการทำงานของ ICP ต้องการความสะอาดระดับเซมิคอนดักเตอร์ แผ่นกัดกรด ICP ของซิลิคอนคาร์ไบด์ของ Semicorex สามารถตอบสนองความต้องการนี้ได้อย่างสมบูรณ์ โดยให้ความต้านทานที่ยอดเยี่ยมต่อก๊าซเคมี (เช่น คลอรีนและฟลูออรีน) และพลาสมาของสภาพแวดล้อมการกัดกรด ICP คุณสมบัติที่สำคัญนี้ช่วยให้สภาพแวดล้อมของกระบวนการสะอาดโดยการลดปริมาณสารปนเปื้อนที่ปล่อยออกมาระหว่างการกัด

Semicorex ให้ความสำคัญกับความสะดวกของผู้ใช้ โดยนำเสนอการออกแบบที่ปรับแต่งได้ของแผ่นกัดกัด ICP ของซิลิคอนคาร์ไบด์ ซึ่งผสานรวมกับระบบกัดกัด ICP ที่มีอยู่ได้อย่างราบรื่น และเข้ากันได้กับการกำหนดค่าต่างๆ ซึ่งช่วยให้การเปลี่ยนผ่านเป็นไปอย่างราบรื่น ทำให้เป็นโซลูชันการอัพเกรดที่เหมาะสำหรับผู้ผลิตอุปกรณ์