สินค้า

เมื่อพูดถึงกระบวนการจัดการเวเฟอร์ เช่น epitaxy และ MOCVD การเคลือบ SiC อุณหภูมิสูงของ Semicorex สำหรับ Plasma Etch Chambers เป็นตัวเลือกอันดับต้นๆ ตัวพาของเราให้การต้านทานความร้อนที่เหนือกว่า ความสม่ำเสมอของความร้อน และความทนทานต่อสารเคมีที่ทนทานด้วยการเคลือบคริสตัล SiC ละเอียดของเรา

ถาดแกะสลักพลาสม่า ICP ของ Semicorex ได้รับการออกแบบทางวิศวกรรมโดยเฉพาะสำหรับกระบวนการจัดการแผ่นเวเฟอร์ที่มีอุณหภูมิสูง เช่น epitaxy และ MOCVD ด้วยความต้านทานต่อออกซิเดชันที่อุณหภูมิสูงและเสถียรสูงถึง 1600°C ตัวพาของเราให้โปรไฟล์ความร้อน รูปแบบการไหลของก๊าซแบบลามิเนต และป้องกันการปนเปื้อนหรือการแพร่กระจายของสิ่งเจือปน

ตัวพาเคลือบ SiC ของ Semicorex สำหรับระบบแกะสลักพลาสม่า ICP เป็นโซลูชันที่เชื่อถือได้และคุ้มค่าสำหรับกระบวนการจัดการแผ่นเวเฟอร์ที่อุณหภูมิสูง เช่น เอพิแทกซีและ MOCVD ตัวพาของเรามีการเคลือบคริสตัล SiC ละเอียดที่ให้การต้านทานความร้อนที่เหนือกว่า ความสม่ำเสมอของความร้อน และความทนทานต่อสารเคมีที่ทนทาน

ตัวรับเคลือบซิลิคอนคาร์ไบด์ของ Semicorex สำหรับพลาสมาแบบเหนี่ยวนำคู่กัน (ICP) ได้รับการออกแบบมาโดยเฉพาะสำหรับกระบวนการจัดการเวเฟอร์ที่อุณหภูมิสูง เช่น เอพิแทกซีและ MOCVD ด้วยความต้านทานต่อออกซิเดชันที่อุณหภูมิสูงและเสถียรถึง 1600°C ตัวพาของเราจึงรับประกันโปรไฟล์ความร้อน รูปแบบการไหลของก๊าซแบบลามินาร์ และป้องกันการปนเปื้อนหรือการแพร่กระจายของสิ่งเจือปน

ตัวจับยึดเวเฟอร์กัดกรด ICP ของ Semicorex เป็นโซลูชันที่สมบูรณ์แบบสำหรับกระบวนการจัดการเวเฟอร์ที่มีอุณหภูมิสูง เช่น เอพิแทกซีและ MOCVD ด้วยความต้านทานต่อออกซิเดชันที่อุณหภูมิสูงและเสถียรถึง 1600°C ตัวพาของเราจึงรับประกันโปรไฟล์ความร้อน รูปแบบการไหลของก๊าซแบบลามินาร์ และป้องกันการปนเปื้อนหรือการแพร่กระจายของสิ่งเจือปน

ICP Etching Carrier Plate ของ Semicorex เป็นโซลูชั่นที่สมบูรณ์แบบสำหรับการจัดการแผ่นเวเฟอร์และกระบวนการสะสมฟิล์มบางที่มีความต้องการสูง ผลิตภัณฑ์ของเราให้ความร้อนและการกัดกร่อนที่เหนือกว่า ความสม่ำเสมอของความร้อน และรูปแบบการไหลของก๊าซแบบลามิเนต ด้วยพื้นผิวที่สะอาดและเรียบเนียน ถาดใส่ของเราจึงเหมาะอย่างยิ่งสำหรับการจัดการเวเฟอร์ที่ใสสะอาด