สินค้า

ด้วยจุดหลอมเหลวสูง ความต้านทานต่อการเกิดออกซิเดชัน และความต้านทานการกัดกร่อน ทำให้ Semicorex SiC-Coated Barrel Susceptor เป็นตัวเลือกที่สมบูรณ์แบบสำหรับการใช้งานในการพัฒนาผลึกเดี่ยว การเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์มีคุณสมบัติความเรียบและการกระจายความร้อนเป็นพิเศษ ทำให้มั่นใจได้ถึงประสิทธิภาพที่เชื่อถือได้และสม่ำเสมอแม้ในสภาพแวดล้อมที่มีอุณหภูมิสูงซึ่งมีความต้องการสูงสุด

หากคุณกำลังมองหาตัวรับกราไฟต์คุณภาพสูงที่เคลือบด้วย SiC ที่มีความบริสุทธิ์สูง ตัวรับแบบบาร์เรล Semicorex พร้อมการเคลือบ SiC ในเซมิคอนดักเตอร์คือตัวเลือกที่สมบูรณ์แบบ คุณสมบัติการนำความร้อนและการกระจายความร้อนที่ยอดเยี่ยมทำให้เหมาะสำหรับใช้ในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์

ด้วยความหนาแน่นและการนำความร้อนที่เหนือกว่า Semicorex SiC Coated Barrel Susceptor สำหรับการเติบโตแบบอีปิแอกเซียล จึงเป็นตัวเลือกที่เหมาะสำหรับใช้ในสภาพแวดล้อมที่มีอุณหภูมิสูงและมีฤทธิ์กัดกร่อน ผลิตภัณฑ์กราไฟท์นี้เคลือบด้วย SiC ที่มีความบริสุทธิ์สูง ให้การป้องกันและการกระจายความร้อนที่ดีเยี่ยม ทำให้มั่นใจได้ถึงประสิทธิภาพที่เชื่อถือได้และสม่ำเสมอในการใช้งานด้านการผลิตเซมิคอนดักเตอร์

ตัวรับถังเคลือบ Semicorex SiC สำหรับ Wafer Epitaxis เป็นตัวเลือกที่สมบูรณ์แบบสำหรับการใช้งานการเติบโตของผลึกเดี่ยว เนื่องจากมีพื้นผิวเรียบเป็นพิเศษและการเคลือบ SiC คุณภาพสูง จุดหลอมเหลวสูง ความต้านทานต่อการเกิดออกซิเดชัน และความต้านทานการกัดกร่อน ทำให้เป็นตัวเลือกที่เหมาะสำหรับใช้ในสภาพแวดล้อมที่มีอุณหภูมิสูงและมีฤทธิ์กัดกร่อน

บาร์เรลเครื่องปฏิกรณ์แบบอีปิแอกเชียลแบบเคลือบ Semicorex SiC เป็นผลิตภัณฑ์กราไฟท์คุณภาพสูงที่เคลือบด้วย SiC ที่มีความบริสุทธิ์สูง ความหนาแน่นและการนำความร้อนที่ดีเยี่ยมทำให้เป็นตัวเลือกที่เหมาะสำหรับใช้ในกระบวนการ LPE โดยให้การกระจายความร้อนและการป้องกันที่ยอดเยี่ยมในสภาพแวดล้อมที่มีฤทธิ์กัดกร่อนและมีอุณหภูมิสูง

กระบอก SiC-Coated Susceptor Chamber ของ Semicorex สำหรับห้องปฏิกรณ์แบบอีปิแอกเซียลเป็นโซลูชันที่เชื่อถือได้สูงสำหรับกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ โดดเด่นด้วยคุณสมบัติการกระจายความร้อนและการนำความร้อนที่เหนือกว่า นอกจากนี้ยังมีความทนทานต่อการกัดกร่อน ออกซิเดชั่น และอุณหภูมิสูงอีกด้วย