กระบอกเครื่องปฏิกรณ์แบบอีปิแอกเซียลเคลือบ SiC

เมื่อพูดถึงการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ ถังปฏิกรณ์แบบเคลือบ Epitaxis เคลือบ Semicorex SiC เป็นตัวเลือกที่ลงตัวสำหรับประสิทธิภาพที่เหนือกว่าและการกระจายความร้อนที่ยอดเยี่ยม ผลิตภัณฑ์กราไฟท์นี้เคลือบด้วย SiC ที่มีความบริสุทธิ์สูง ให้ความต้านทานการกัดกร่อนและความร้อนที่โดดเด่น ทำให้มั่นใจได้ถึงผลลัพธ์ที่เชื่อถือได้และสม่ำเสมอทุกครั้ง

ที่ Semicorex เรามุ่งเน้นในการนำเสนอผลิตภัณฑ์คุณภาพสูงและคุ้มค่าแก่ลูกค้าของเรา ถังปฏิกรณ์แบบอีปิแอกเชียลแบบเคลือบ SiC ของเรามีข้อได้เปรียบด้านราคาและส่งออกไปยังตลาดยุโรปและอเมริกาหลายแห่ง เรามุ่งมั่นที่จะเป็นพันธมิตรระยะยาวของคุณ นำเสนอผลิตภัณฑ์ที่มีคุณภาพสม่ำเสมอและการบริการลูกค้าที่เป็นเลิศ

พารามิเตอร์ของถังปฏิกรณ์แบบ Epitaxial แบบเคลือบ SiC

คุณสมบัติของถังปฏิกรณ์แบบ Epitaxial Reactor แบบเคลือบ SiC

- ทั้งสารตั้งต้นกราไฟท์และชั้นซิลิคอนคาร์ไบด์มีความหนาแน่นที่ดีและสามารถมีบทบาทในการป้องกันที่ดีในสภาพแวดล้อมการทำงานที่มีอุณหภูมิสูงและกัดกร่อน

- ตัวรับเคลือบซิลิคอนคาร์ไบด์ที่ใช้สำหรับการเจริญเติบโตของผลึกเดี่ยวมีความเรียบของพื้นผิวที่สูงมาก

- ลดความแตกต่างของค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อนระหว่างพื้นผิวกราไฟท์และชั้นซิลิคอนคาร์ไบด์ ปรับปรุงความแข็งแรงพันธะได้อย่างมีประสิทธิภาพเพื่อป้องกันการแตกร้าวและการหลุดร่อน

- ทั้งซับสเตรตกราไฟท์และชั้นซิลิกอนคาร์ไบด์มีค่าการนำความร้อนสูงและมีคุณสมบัติการกระจายความร้อนที่ดีเยี่ยม

- มีจุดหลอมเหลวสูง ทนต่อการเกิดออกซิเดชันที่อุณหภูมิสูง ทนต่อการกัดกร่อน